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武井電機工業 会社沿革 |
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| 1936 | 昭和11年5月 | ● 久留米市東町に於いて創業(個人営業)。モーター関係の修理を営む。 | |||||
| 1963 | 昭和38年8月 |
● 合名会社武井電機製作所設立。 ● 工作機械の制御、操作盤等の設計及び製作開始。 |
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| 1966 | 昭和41年9月 |
● 武井電機工業株式会社に改組。(資本金200万円) ● SCRを使用した制御盤等の設計製作始める。 |
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| 昭和42年4月 | ● 資本金を400万円に増資。 | ||||||
| 昭和45年9月 |
● 資本金を600万円に増資。 ● 無接点リレーによる制御盤の設計製作。 ● 生産プラント、水処理プラントの電装品の設計製作据付受注開始。 |
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| 昭和46年4月 | ● IC、LSIを使用したアナログ制御の設計製作開始。 | ||||||
| 昭和48年4月 | ● 資本金を1,200万円に増資。 | ||||||
| 昭和48年9月 |
● 工場を佐賀県三養基郡みやき町に移転。 ● 資本金を2,400万円に増資。 ● 新工場にて製紙工場及び製鐵所向等のSCR(静止型)レオナードの製作開始。 |
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| 昭和49年3月 |
● 本社を久留米市江戸屋敷2丁目1番11号に置く。 ● IC、LSI、MOSIC等使用のデジタル制御装置設計製作。 |
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| 昭和50年1月 | ● 電気工事部門の設置。 | ||||||
| 昭和52年10月 | ● 資本金を3,600万円に増資。 | ||||||
| 昭和53年10月 | ● 機械事業部を設置。 | ||||||
| 昭和53年12月 |
● 放電加工機の電源部にマイコンを導入した制御装置の設計製作。 ● 富士通ファナック製NCを使用した工作機械のレトロフィット。（グレードアップ） |
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| 1982 | 昭和57年9月 | ● 産業用ロボット(2頭10軸)試作機を完成。 | |||||
| 昭和58年3月 | ● 資本金を4,800万円に増資。 | ||||||
| 昭和61年3月 | ● FAシステム事業部を設置。(機械事業部を発展的解消) | ||||||
| 1992 | 平成4年4月 | ● 光メディア用ディスクの生産設備生産開始。 | |||||
| 平成6年1月 | ● 資本金を7,800万円に増資。 | ||||||
| 1995 | 平成7年1月 | ● 画像処理制御システム開発開始。 | |||||
| ● 富士電機㈱と画像処理にてエンジニアリング業務提携。 | |||||||
| 1996 | 平成8年10月 | ● 半導体後工程／高速ワイヤボンダ研究開発開始。 | |||||
| 平成10年2月 |
● 高速ワイヤボンダ試作機完成､実装テストに入る。 ● 特殊ダイボンダ研究開発。 |
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| 1998 | 平成10年4月 | ● 半導体前工程／洗浄装置研究開発。 | |||||
| 平成10年12月 |
● ウェハー省レジストスピンコータ研究開発。 ● 資本金を9,830万円に増資。 |
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| 1999 | 平成11年5月 | ● ISO9001認証取得。 | |||||
| 平成12年2月 | ●液晶プロセス装置生産開始。 | ||||||
| 2000 | 平成12年9月 | ●弊社クリーンルーム設置。超クリーンシステム生産。 | |||||
| 2001 | 平成13年5月 | ●PDPプロセス生産開始。 | |||||
| 2003 | 平成15年12月 | ●ITO透明電極レーザー加工装置を開発(1号機)。 | |||||
| 2004 | 平成16年8月 | ●久留米市津福本町に久留米工場新設。 | |||||
| 2005 | 平成17年8月 | ●レーザー加工装置の更なる開発に対して経済産業省より補助金を受ける。 | |||||
| 2006 | 平成18年6月 | ●ISO14001認証取得。 | |||||
| 2008 | 平成20年6月 | ●本社を佐賀県三養基郡みやき町江口2617番地に置く。 | |||||
